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產品詳情

(青島福潤德微電子設備有限公司)擴散爐是半導體器件及大規模集成電路制造過程中用于對晶片進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝的一種熱加工設備。

其組成有：加熱爐（擴散爐主機）、超凈化操作系統、氣源系統、控制系統等。選用工控機微控方式或者程控方式操作。

微控擴散爐技術指標：

1、可處理硅片尺寸2~12英寸

2、外形形式：臥式1~4管結構

3、工作溫度：200℃~1300℃

4、恒溫區長度及精度：200mm~1100mm

5、單點溫度穩定性、重復性：<=1℃/24h

6、溫度斜變：可控升溫速率：5℃/min

7、送片裝置：全自動懸臂推拉舟、拉桿式推拉舟

8、氣路系統：1——5路工藝氣體/管

9、氣體控制：全自動MFC

10、控制方式：工控機、觸摸屏