400-808-1566

產品詳情

（青島福潤德微電子設備有限公司）井式/立式真空爐主要用于半導體器件燒結、封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結及各種零件在氫氮保護下進行的工藝。

井式真空爐技術指標：

1、真空室工位數：1~3位

2、真空度：1Pa，加擴散泵5×10-3 Pa

3、工作溫度：<1000℃

4、充氣的最高壓強：0.3MPa(可控)

5、不銹鋼內膽：Φ150~Φ350*1300mm

6、恒溫區：600~1200mm±1℃

7、控溫方式：三點三段采用原裝進口 高精度控溫儀

8、控溫曲線：9段升降溫/999小時

9、工作方式：自動或手動自由轉換

10、單點精度：±1℃/24h

11、正壓負壓均采用數字顯示表可多工位同時工作